国内ITO靶材及其原材料产业发展现状浅析区域

据悉，2010年全球ITO靶材市场产量为941吨，而到了2012年，全球ITO靶材产量上涨至1271吨。随着大尺寸面板的正式量产，预计2015年以前韩国ITO靶材需求每年将增加9.8%。

对于ITO靶材，我国一直处于技术弱势地位，国际高端ITO靶材由JX日矿日石金属、日本三井矿业、日本东曹、韩国三星、德国及美国的少数几家公司所垄断。其中又以日本日矿和三井为最，其两家几乎占据了高端市场用ITO靶材的全部份额和大部分的面板市场，每家年供应量据称达到600吨以上。

近期，在广西柳州举办的业界高端镀膜工艺研讨会上，与会专家一致认为，国内各厂商在靶材的研发过程中出现各种问题是必然的，也不可否认国内在这方面的技术远远落后于日本和韩国。目前，国内溅射靶材主要应用于中低端产品商，而高端靶材产品则从日韩进口。本土靶材厂商约占国内市场 0%的份额，国内大部分的靶材市场则由日韩瓜分。

近年来，由于智能、平板电脑等移动终端的流行，市场对ITO靶材的需求量大增，而ITO靶材主要原材料是稀有金属铟，该领域对铟的消费量占到了全球铟产量的75%左右。目前，全球铟的保有量只有1.6万吨，中国的铟保有量约1万吨，全球占比达到62%。接下来是秘鲁的580吨、加拿大的560吨、美国的450吨，分别占全球保有量的 .6%、 .5%、2.7%，比较可知，铟是中国在储量上占据绝对优势的资源。虽然国内铟储存量丰富，但ITO靶材技术一直无法取得突破，成为为日韩提供铟金属原材料供应国。

为在ITO靶材方面取得技术突破。2012年科技部在北京组织召开了 十一五 国家科技支撑计划 铟、铝深加工关键技术攻关与产品开发 重点项目验收会上，烧结法制备ITO靶材新技术，生产出超高密度高性能ITO靶材，建设了一条年产10万吨的试验生产线，打破了国外技术垄断。当年，洛阳725所高世代TFT-和PDP用ITO靶材技术研发及产业化项目列入国家战略性新兴产业发展专项资金计划，给予4000万元国家补助资金支持。725所在已具备完全自主知识产权的高纯高活性纳米ITO粉末制备、湿法成型、氧压烧结和物理气化回收等核心技术基础上，实现高端ITO靶材的国内自主供应，对于突破我国产业技术瓶颈，改变铟低价出口再高价买回制品的被动局面，打破国外垄断具有重要意义。

同时，国家开始把铟作为一种国家战略资源，从2007年就开始实施出口配额制度。提高行业准入门槛、控制开采总量、实行更严格的出口配额、推动行业整合、并实施战略收储等一系列政策，逐步收紧对铟的供给。此外，国内有成立了泛亚有色金属交易所，主导了铟金属国际市场价格。